ASML的光刻设备订单激增，排期延至2027年

荷兰芯片设备制造商ASML最近透露，其极紫外（EUV）光刻机的订单已排至2027年，现有订单几乎被抢购一空。同时，许多客户开始承诺采购下一代高数值孔径（High-NA）光刻设备，单台价格约为4亿美元，且主要芯片厂商如台积电、三星、SK海力士和英特尔已确定将在2030年代开始投入High-NA生产。这一需求的增长主要受到AI热潮的推动。ASML首席财务官罗杰·达森指出，AI的兴起显著改变了客户的消费心理，导致EUV设备订单几近饱和，并分享了客户的期望：“能多供应一些吗？能否尽快交货？”达森对AI热潮的未来持乐观态度，认为其发展前景仍然广阔，并表示从未对其产生过怀疑。

客户对下一代High-NA设备的采购承诺意味着这项更昂贵的技术可以缩小约40%的刻印尺寸，虽然其成本约为标准设备的两倍，但有助于减少生产工序，提高制造效率。主要芯片制造商们将High-NA设备的投产时间锁定在2030年代，显示出对更小特征尺寸的持续需求。

目前，ASML仍然是EUV领域的唯一供应商，而日本的尼康、佳能以及中国的竞争对手只提供深紫外（DUV）系统，尚未进入EUV市场。这使得ASML在EUV技术方面依然保持了垄断地位，而DUV领域的生产成本则是标准设备的两倍。总体看来，从订单排期到High-NA设备的快速增长，再到主要厂商的未来计划，这些趋势都表明AI热潮正在继续推动半导体设备的需求。 龙8国际登录